Development and synthesis of Sn-containing negative tone photoresists for EUV lithography
극자외선 리소그래피용 주석 기반 네거티브 포토레지스트의 개발 및 합성
- 주제어 (키워드) 극자외선 리소그래피 , 네거티브 포토레지스트 , 유기주석 클러스터 , 주석과 실리콘이 복합된 산화물 클러스터 , 에스터기를 포함한 유기주석 클러스터 , EUV lithography , negative-tone photoresist , organotin clusters , tin/silicon oxo-hybrid clusters , ester-functionalized organotin clusters
- 발행기관 서강대학교 일반대학원
- 지도교수 문봉진
- 발행년도 2025
- 학위수여년월 2025. 2
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 일반대학원 화학과
- 실제 URI http://www.dcollection.net/handler/sogang/000000079333
- UCI I804:11029-000000079333
- 본문언어 한국어
- 저작권 서강대학교 논문은 저작권 보호를 받습니다.
목차
1. 서론 5
2. 결과 및 고찰 18
2.1. 주석을 포함한 사다리형 폴리실세스퀴옥산의 합성 및 평가 18
2.2. 아자이드기를 포함한 폴리실세스퀴옥산의 합성 22
2.3. 주석과 실리콘이 복합된 산화물 클러스터 합성 및 평가 30
2.4. EUV 광에 대한 감도가 개선된 유기주석 클러스터의 합성 및 평가 44
3. 결론 54
4. 실험 56
4.1. 시약 및 시료 56
4.2. 장비 57
4.3. 합성 58
4.4. 전자빔 리소그래피 114
