고 유전물질을 절연체 박막으로 적용한 금속-강유전체-절연체-금속 구조의 강유전체 터널링 접합 특성 분석
Analysis of Ferroelectric Tunnel Junction with Metal-ferroelectric-insulator-metal Structure Applying High-k Material as an Insulator Layer
- 주제(키워드) 도움말 Ferroelectric tunnel junction , HfO2-based ferroelectric film , High-k material , Low power operation , Tunneling electro-resistance
- 발행기관 대한전자공학회
- 발행년도 2022
- 총서유형 Journal