Negative tone photoresists containing Tin and Oxime-based photoinitiators and photoacid generators
주석 원자를 포함한 네거티브톤 포토레지스트 및 옥심 구조 기반 광개시제와 광산 발생제 화합물 설계
- 주제어 (키워드) Sn , Fluorine , Photoresist , Inorganic , EUV lithography , Oxime , Photoinitiators , Photoacid generators , 주석 , 포토레지스트 , 무기물 , EUV , 옥심 , 광개시제 , 광산 발생제
- 발행기관 서강대학교 일반대학원
- 지도교수 문봉진
- 발행년도 2023
- 학위수여년월 2023. 2
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 일반대학원 화학과
- 실제 URI http://www.dcollection.net/handler/sogang/000000069963
- UCI I804:11029-000000069963
- 본문언어 영어
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