증발과 입자 증착을 통한 패턴 제작에 대한 연구
Experimental Study of a Pattern Fabrication Process via Evaporation and Particle Deposition
- 주제(키워드) 도움말 나노 입자 , 증발 자기 조립 , 미세 구조
- 발행기관 서강대학교 일반대학원
- 지도교수 손기헌
- 발행년도 2016
- 학위수여년월 2016. 2
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 일반대학원 기계공학과
- 실제URI http://www.dcollection.net/handler/sogang/000000058867
- 본문언어 한국어
- 저작권 서강대학교 논문은 저작권보호를 받습니다.
초록/요약
본 논문에서는 증발 자기 조립 현상을 이용한 패턴 제작에 대한 실험을 수행하였다. 증발 자기 조립 현상은 입자를 포함한 액체가 증발하면서 입자가 접촉선에 증착되는 현상으로 접촉선의 조절을 통하여 미세 구조물을 제작하는 공정에 응용할 수 있다. 단일 미세 액적의 증발 거동에 나노 입자가 미치는 영향을 분석하였으며, 기판의 온도가 입자 증착 패턴에 미치는 영향을 실험적으로 분석하였다. 그 후, 접촉선이 직선 형태를 이루는 두 가지 구성의 미세 라인 패턴 제작 공정에 대한 실험을 수행하여 미세 라인 패턴을 제작하였다. 딥(dip) 코팅 구성에서는 기판의 후퇴속도와 입자 농도에 따른 패턴 특성변화를 관찰하였다. 펜(pen) 코팅 구성을 바탕으로 기판의 이동에 따라 라인 패턴의 특성이 조절 되는 공정을 구성하여 라인 패턴의 특성과 기판 이동의 관계를 확인하였다.
more초록/요약
In this study, experiments were carried out on the pattern produced by evaporative self-assembly phenomenon. The evaporative self-assembly is the deposition of particles at contact line by evaporation of particle-laden fluid. This phenomenon can be applied to fabrication process of microstructure through the control of a contact line. We analyzed the effect of nanoparticles on evaporation of micro-droplets and the effect of substrate temperature on the particle deposition. Micro line patterns were fabricated by two configurations. In a dip coating configuration, the change of pattern characteristics for substrate withdrawal velocity and particle concentration was investigated. In a pen coating configuration, the fabrication process was designed to can control the substrate velocity. The pattern characteristic could be adjusted by a substrate moving. The relation between the pattern characteristic and substrate movement was quantified.
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