초임계유체를 이용한 이온주입 웨이퍼상의 Photoresist 제거에 관한 연구
Post Ion-Implant Photoresist Stripping Using Supercritical Carbon Dioxde
- 주제(키워드) Wafer cleaning , Photoresist
- 발행기관 서강대학교 일반대학원
- 지도교수 유기풍
- 발행년도 2011
- 학위수여년월 2011. 2
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 일반대학원 화공생명공학과
- 실제URI http://www.dcollection.net/handler/sogang/000000046372
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